Intel разработала технологию SuperFin, позволяющую улучшить имеющуюся у нее 10-нанометровую технологию производства полупроводников. В компании утверждают, что ее внедрение позволяет сблизить по характеристикам 10 нм с существующим 7-нанометровым техпроцессом и дает 20-процентный прирост производительности процессоров. Первые чипы с SuperFin появятся в конце 2020 г.

Новая технология, старый техпроцесс

Компания Intel анонсировала новую технологию производства полупроводников, получившую название SuperFin. Это не полностью новый техпроцесс, а улучшенный 10-нанометровый, но Intel утверждает, что его оптимизация по сравнению с имеющимися в ее распоряжении 10 нанометрами настолько высока, что использование SuperFin вполне можно сравнить с переходом на более совершенную литографию. подробнее на www.cnews.ru